- 論文全文：Corrosion of plasma sputtering medium entropy alloy thin film: A multidisciplinary perspective 於2023年2月1日發表於Corrosion Science：https://doi.org/10.1016/j.corsci.2023.111020
- 作者名單：Kai-Chi Chuang a, Yu-Yen Chang a, Ching-Yu Chiang c, Yun-Chung Liu d, Hao-Hsuan Hung d, Ko-Kai Tseng b, Jien-Wei Yeh b*, Hsiu-Wei Cheng a*
以電漿濺鍍製備的多主元素合金（MPEAs）薄膜對於擁有廣泛應用的功能性多層材料設計極為重要。為了研究其電化學穩定性，我們研究一套由不同分析儀器組成的分析方法，包含即時的光學顯微鏡結合感應耦合電漿質譜（ICPMS）和電化學表面電漿共振儀（EC-SPR）技術，以及腐蝕反應後X射線光電子能譜儀（XPS）和X射線吸收光譜（XAS）的鑑定。與先前對於合金塊材的研究相比，我們觀察到使用電漿濺鍍技術的兩種合金/金薄膜，在反應性上有明顯的差異。根據X射線光電子能譜儀、X射線吸收光譜和電化學表面電漿共振儀的結果，我們提出鎳鈷鉻合金層與金層之間界面邊緣處所形成的氫氧化鉻，是削弱鎳鈷鉻/金系統之抗腐蝕性的原因。
圖一: 自製腐蝕即時分析裝置之示意圖。(a) 光學系統、電化學流體槽及樣品放置方式。(b) 流體槽液體流動路徑及電極放置方式之側視放大圖。(c) 薄膜樣品製備方式。(d) 在常規脈衝伏安法下的質譜時域圖，內插圖為脈衝序列示意圖。(e) SPR樣品分析示意圖及SPR角度解析之量測光譜圖。